津田 穣/著 -- 共立出版 -- 1990.4 --

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中央 書庫 一般図書 /5491/3043/90 1123992947 Digital BookShelf
1990/04/26 可能(館内閲覧) 利用可   0
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ISBN 4-320-08511-6
タイトル 超LSIレジストの分子設計
タイトルカナ チョウ エルエスアイ レジスト ノ ブンシ セッケイ
著者名 津田 穣 /著
著者名典拠番号

110001327710000

出版地 東京
出版者 共立出版
出版者カナ キョウリツ シュッパン
出版年 1990.4
ページ数 117p
大きさ 19cm
シリーズ名 表面・薄膜分子設計シリーズ
シリーズ名のルビ等 ヒョウメン ハクマク ブンシ セッケイ シリーズ
シリーズ番号 11
シリーズ番号読み 11
価格 ¥1320
一般件名 集積回路 , 工業材料 , 薄膜
一般件名カナ シュウセキ カイロ,コウギョウ ザイリョウ,ハクマク
一般件名典拠番号

510919900000000 , 510762000000000 , 511306800000000

分類:都立NDC10版 549.7
資料情報1 『超LSIレジストの分子設計』(表面・薄膜分子設計シリーズ 11) 津田 穣/著  共立出版 1990.4(所蔵館:中央  請求記号:/5491/3043/90  資料コード:1123992947)
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1101690388