河東田 隆/著 -- 培風館 -- 1993.1 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /5490/3122/93 1125647407 Digital BookShelf
1993/01/29 可能(館内閲覧) 利用可   0

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ISBN 4-563-03342-1
タイトル デバイスプロセス
タイトルカナ デバイス プロセス
著者名 河東田 隆 /著
著者名典拠番号

110000277750000

出版地 東京
出版者 培風館
出版者カナ バイフウカン
出版年 1993.1
ページ数 228p
大きさ 22cm
シリーズ名 電子・情報工学講座
シリーズ名のルビ等 デンシ ジョウホウ コウガク コウザ
シリーズ番号 12
シリーズ番号読み 12
価格 ¥3850
内容紹介 1.主な半導体デバイスの製作プロセス 2.バルク結晶の成長 3.エピタキシャル成長技術 4.ウエハの加工と表面処理 5.絶縁膜の形成 6.不純物拡散とイオン注入 7.微細パターンの形成 8.電極と配線の形成および実装 ほか6章
一般件名 半導体
一般件名カナ ハンドウタイ
一般件名典拠番号

511311800000000

分類:都立NDC10版 549.8
資料情報1 『デバイスプロセス』(電子・情報工学講座 12) 河東田 隆/著  培風館 1993.1(所蔵館:中央  請求記号:/5490/3122/93  資料コード:1125647407)
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1101941006