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[ 和図書 ] イオン応用機器概論

磯部 昭二／[ほか]著 -- 開発社 -- 1994.3 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /5490/3156/94 1127451300 Digital BookShelf
1994/05/20 可能 利用可   0

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ISBN 4-7591-0086-5
タイトル イオン応用機器概論
タイトルカナ イオン オウヨウ キキ ガイロン
著者名 磯部 昭二 ／[ほか]著
著者名典拠番号

110000087560000

出版地 東京
出版者 開発社
出版者カナ カイハツシャ
出版年 1994.3
ページ数 135p
大きさ 22cm
累積注記 監修:岩木正哉
著者等に関する注記 監修:岩木正哉
価格 ¥1748
内容紹介 真空中でイオンを応用する機器の概論。内容は、半導体へのイオン注入、金属改質イオン注入、イオンプレーティング、ダイナミックミキシング、クラスターイオンビーム、イオンビームスパッタなどの薄膜形式など機器の側から概説したもの。
一般件名 イオンビーム
一般件名カナ イオン ビーム
一般件名典拠番号

510101200000000

分類：都立NDC10版 549.1
資料情報1 『イオン応用機器概論』　磯部 昭二／[ほか]著 　開発社　1994.3（所蔵館：中央　 請求記号：/5490/3156/94　 資料コード：1127451300）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1102068312

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