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[ 和図書 ] フォトマスク技術のはなし 超LSI、液晶、プリント板を支える

田辺 功／[ほか]共著 -- 工業調査会 -- 1996.8 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /5491/3175/96 1128081150 Digital BookShelf
1996/08/26 可能 利用可   0

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ISBN 4-7693-1149-4
タイトル フォトマスク技術のはなし
タイトルカナ フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ
タイトル関連情報 超LSI、液晶、プリント板を支える
タイトル関連情報読み チョウエルエスアイ エキショウ プリントバン オ ササエル
著者名 田辺 功 ／[ほか]共著
著者名典拠番号

110002695320000

出版地 東京
出版者 工業調査会
出版者カナ コウギョウ チョウサカイ
出版年 1996.8
ページ数 262p
大きさ 21cm
価格 ¥3000
内容紹介 フォトマスクは透明なガラス板の上に電子回路のパターンを光を通さない材料で形成した部品である。LSIなどの生産に欠かせないこの技術を紹介する。
一般件名 リソグラフィー
一般件名カナ リソグラフィー
一般件名典拠番号

510268700000000

分類：都立NDC10版 549.7
資料情報1 『フォトマスク技術のはなし 超LSI、液晶、プリント板を支える』　田辺 功／[ほか]共著 　工業調査会　1996.8（所蔵館：中央　 請求記号：/5491/3175/96　 資料コード：1128081150）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1102316578

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