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[ 和図書 ] VLSIとCVD 半導体デバイスへのCVD技術の応用

前田 和夫／著 -- 槇書店 -- 1997.7 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /5491/3192/97 1128381228 Digital BookShelf
1997/09/29 可能 利用可   0

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ISBN 4-8375-0645-3
タイトル VLSIとCVD
タイトルカナ ヴイエルエスアイ ト シーヴイディー
タイトル関連情報 半導体デバイスへのCVD技術の応用
タイトル関連情報読み ハンドウタイ デバイス エノ シーヴイディー ギジュツ ノ オウヨウ
著者名 前田 和夫 ／著
著者名典拠番号

110000895900000

出版地 東京
出版者 槇書店
出版者カナ マキ ショテン
出版年 1997.7
ページ数 396p
大きさ 22cm
価格 ¥6600
内容紹介 薄膜形成技術の中でも半導体デバイスへの応用に関して、中心的な役割を果たしてきたCVD(化学気相成長)技術について焦点をあて、実務的かつ技術論的に解説する。
一般件名 集積回路 , 化学蒸着
一般件名カナ シュウセキ カイロ,カガク ジョウチャク
一般件名典拠番号

510919900000000 , 510537200000000

分類：都立NDC10版 549.7
資料情報1 『VLSIとCVD 半導体デバイスへのCVD技術の応用』　前田 和夫／著 　槇書店　1997.7（所蔵館：中央　 請求記号：/5491/3192/97　 資料コード：1128381228）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1102438074

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