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[ 和図書 ] フォトポリマーの基礎と応用 ( CMCテクニカルライブラリー 136 )

山岡 亜夫／監修 -- シーエムシー出版 -- 2003.3 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /578.4/5044/2003 5006384353 Digital BookShelf
2003/04/23 可能 利用可   0
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ISBN 4-88231-787-7
タイトル フォトポリマーの基礎と応用
タイトルカナ フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ
著者名 山岡 亜夫 ／監修
著者名典拠番号

110001024150000

特殊な版表示 普及版
出版地 東京
出版者 シーエムシー出版
出版者カナ シーエムシー シュッパン
出版年 2003.3
ページ数 336p
大きさ 21cm
シリーズ名 CMCテクニカルライブラリー
シリーズ名のルビ等 シーエムシー テクニカル ライブラリー
シリーズ番号 136
シリーズ番号読み 136
累積注記 初版の書名:実用高分子レジスト材料の新展開
一般注記 初版の書名:実用高分子レジスト材料の新展開,普及版
価格 ¥4300
内容紹介 フォトポリマーが広く使用され始めて既に40年が過ぎ、精密加工・微細加工のキーテクノロジーとしての地位を確立しているが、最近では新しい局面に立ち至っている…。97年刊「実用高分子レジスト材料の新展開」の普及版。
一般件名 感光性樹脂
一般件名カナ カンコウセイジュシ
一般件名 感光性樹脂
一般件名カナ カンコウセイ ジュシ
一般件名典拠番号

510599600000000

分類：都立NDC10版 578.4
注記のタイトル 実用高分子レジスト材料の新展開
資料情報1 『フォトポリマーの基礎と応用』（CMCテクニカルライブラリー 136）　山岡 亜夫／監修 　シーエムシー出版　2003.3（所蔵館：中央　 請求記号：/578.4/5044/2003　 資料コード：5006384353）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1105837455

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