資料詳細

  • 1 件中、 1 件目

[ 和図書 ] プラズマ半導体プロセス工学 成膜とエッチング入門

市川 幸美／共著 -- 内田老鶴圃 -- 2003.7 --

所蔵

所蔵は 1 件です。

所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /549.8/5049/2003 5007233907 Digital BookShelf
2003/09/03 可能 利用可   0

Eメールによる郵送複写申込みは、「東京都在住」の登録利用者の方が対象です。

    • 統合検索
      都内図書館の所蔵を
      横断検索します。       類似資料 AI Shelf
      この資料に類似した資料を
      AIが紹介します。

ページの先頭へ

資料詳細 閉じる

ISBN 4-7536-5048-0
タイトル プラズマ半導体プロセス工学
タイトルカナ プラズマ ハンドウタイ プロセス コウガク
タイトル関連情報 成膜とエッチング入門
タイトル関連情報読み セイマク ト エッチング ニュウモン
著者名 市川 幸美 ／共著, 佐々木 敏明 ／共著, 堤井 信力 ／共著
著者名典拠番号

110004030470000 , 110004030480000 , 110000665240000

出版地 東京
出版者 内田老鶴圃
出版者カナ ウチダ ロウカクホ
出版年 2003.7
ページ数 289p
大きさ 22cm
価格 ¥4000
内容紹介 プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説する。
一般件名 半導体,プラズマ
一般件名カナ ハンドウタイ,プラズマ
一般件名 半導体 , プラズマ物理学
一般件名カナ ハンドウタイ,プラズマ ブツリガク
一般件名典拠番号

511311800000000 , 510345500000000

分類：都立NDC10版 549.8
資料情報1 『プラズマ半導体プロセス工学 成膜とエッチング入門』　市川 幸美／共著, 佐々木 敏明／共著 , 堤井 信力／共著　内田老鶴圃　2003.7（所蔵館：中央　 請求記号：/549.8/5049/2003　 資料コード：5007233907）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1105926595

ページの先頭へ