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    小沢朝江
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[ 和図書 ] 入門フォトマスク技術 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク

田邉 功／著 -- 工業調査会 -- 2006.12 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /549.7/5052/2006 5013136490 Digital BookShelf
2007/01/18 可能 利用可   0
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ISBN 4-7693-1259-8
タイトル 入門フォトマスク技術
タイトルカナ ニュウモン フォトマスク ギジュツ
タイトル関連情報 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
タイトル関連情報読み エルエスアイ エフピーディー ピーダブリュービー メムス ノ タメ ノ フォトマスク
著者名 田邉 功 ／著, 竹花 洋一 ／著, 法元 盛久 ／著
著者名典拠番号

110002695320000 , 110004871940000 , 110004871950000

並列タイトル Introduction to Photomask Technology
出版地 東京
出版者 工業調査会
出版者カナ コウギョウ チョウサカイ
出版年 2006.12
ページ数 323p
大きさ 21cm
価格 ¥3800
内容紹介 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
一般件名 リソグラフィー,集積回路
一般件名カナ リソグラフィー,シュウセキカイロ
一般件名 リソグラフィー
一般件名カナ リソグラフィー
一般件名典拠番号

510268700000000

分類：都立NDC10版 549.7
資料情報1 『入門フォトマスク技術 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク』　田邉 功／著, 竹花 洋一／著 , 法元 盛久／著　工業調査会　2006.12（所蔵館：中央　 請求記号：/549.7/5052/2006　 資料コード：5013136490）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1107059957

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