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[ 和図書 ] ナノテクノロジーとレジスト材料 ( CMCテクニカルライブラリー 256 )

山岡 亞夫／監修 -- シーエムシー出版 -- 2007.4 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /549.7/5054/2007 5013547682 Digital BookShelf
2007/06/03 可能 利用可   0
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ISBN 4-88231-921-4
ISBN13桁 978-4-88231-921-4
タイトル ナノテクノロジーとレジスト材料
タイトルカナ ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
著者名 山岡 亞夫 ／監修
著者名典拠番号

110001024150000

並列タイトル Nano Technology and Polymer Resist
特殊な版表示 普及版
出版地 東京
出版者 シーエムシー出版
出版者カナ シーエムシー シュッパン
出版年 2007.4
ページ数 6, 253p
大きさ 21cm
シリーズ名 CMCテクニカルライブラリー
シリーズ名のルビ等 シーエムシー テクニカル ライブラリー
シリーズ番号 256
シリーズ番号読み 256
版及び書誌的来歴に関する注記 初版のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
版及び書誌的来歴に関する注記 初版のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
価格 ¥3600
内容紹介 ナノテクノロジーについて、トップダウンの技術とボトムアップ技術、およびこれらの中間に存在して、日常的に役立っているものについて取り上げる。また、それぞれの周辺の材料やプロセスに関して整理する。
一般件名 リソグラフィー,ナノテクノロジー
一般件名カナ リソグラフィー,ナノテクノロジー
一般件名 リソグラフィー , ナノテクノロジー
一般件名カナ リソグラフィー,ナノテクノロジー
一般件名典拠番号

510268700000000 , 510207500000000

分類：都立NDC10版 549.7
注記のタイトル 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
資料情報1 『ナノテクノロジーとレジスト材料』（CMCテクニカルライブラリー 256）　山岡 亞夫／監修 　シーエムシー出版　2007.4（所蔵館：中央　 請求記号：/549.7/5054/2007　 資料コード：5013547682）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1107168727

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