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[ 和図書 ] 圧電材料の高性能化と先端応用技術

中村僖良／監修 -- サイエンス&テクノロジー -- 2007.11 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /549.0/5147/2007 5016114128 Digital BookShelf
2009/02/06 可能 利用可   0

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ISBN 4-903413-31-0
ISBN13桁 978-4-903413-31-0
タイトル 圧電材料の高性能化と先端応用技術
タイトルカナ アツデン ザイリョウ ノ コウセイノウカ ト センタン オウヨウ ギジュツ
著者名 中村僖良 ／監修
著者名典拠番号

110003612220000

出版地 東京
出版者 サイエンス&テクノロジー
出版者カナ サイエンス アンド テクノロジー
出版年 2007.11
ページ数 508p
大きさ 27cm
価格 55000
内容注記 内容:圧電材料の基礎/中村僖良∥著.圧電材料の構造制御と非鉛系の開発:鉛系圧電セラミックス材料/山下洋八∥著 細野靖晴∥著 逸見和弘∥著. 非鉛系圧電セラミックス/竹中正∥著. 圧電単結晶の結晶成長と性能向上/福田承生∥著. 圧電単結晶のドメイン構造制御/和田智志∥著. 圧電高分子/古川猛夫∥著 児玉秀和∥著. 化学溶液法(ゾル・ゲル法)/飯島高志∥著. スパッタリング法による圧電体薄膜作製技術/眞岩宏司∥著. PLD法による(K,Na)NbO3系非鉛圧電薄膜の形成/和田隆博∥著. MOCVD法/舟窪浩∥著 安井伸太郎∥著. コンタクトエピタキシー法/宇野武彦∥著. 反応性アーク放電イオンプレーティング(ADRIP)法によるPZT厚膜の作製/安田喜昭∥著. エアロゾルデポジション法/明渡純∥著. 水熱合成法/黒澤実∥著. 界面重合法/鶴見敬章∥著. スクリーン印刷法/二口友昭∥著. インクジェット法/二口友昭∥著. 低温焼結技術/林卓∥著. マイクロ波焼結(マイクロ波焼結による圧電セラミックスの高性能化)/高橋弘文∥著.圧電材料,圧電薄膜・厚膜の圧電特性評価/山本孝∥著.圧電デバイスへの応用・設計技術:セラミック共振子/井上二郎∥著. 水晶振動子/小山光明∥著. 積層型圧電アクチュエータ/東條裕志∥著. ニュー圧電セラミックアクチュエータ/永田邦裕∥著. ハイパワー駆動における圧電デバイスの破壊と寿命予測/永田邦裕∥著. 圧電型角速度センサ/菅原澄夫∥著. 表面実装型加速度センサ素子/栗原哲郎∥著. 超音波モータ/上羽貞行∥著. 医用超音波トランスデューサ/四方浩之∥著. 超音波センサの非破壊検査・評価への応用/村山理一∥著. 圧電トランス/松尾泰秀∥著. SAWデバイス/佐藤良夫∥著. RF MEMS/川久保隆∥著. 発電素子/速水浩平∥著. フィルム接合技術及び半導体・弾性表面波素子への応用/宝川幸司∥著 黄啓新∥著
書誌・年譜・年表 文献あり
一般件名 電子部品,圧電気
一般件名カナ デンシブヒン,アツデンキ
分類：都立NDC10版 549
資料情報1 『圧電材料の高性能化と先端応用技術』　中村僖良／監修 　サイエンス&テクノロジー　2007.11（所蔵館：中央　 請求記号：/549.0/5147/2007　 資料コード：5016114128）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1107407391

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