垂井 康夫/編著 -- 工業調査会 -- 2008.12 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /549.8/5132/2008 5016054191 Digital BookShelf
2009/01/27 可能 利用可   0

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ISBN 4-7693-1277-2
ISBN13桁 978-4-7693-1277-2
タイトル 世界をリードする半導体共同研究プロジェクト
タイトルカナ セカイ オ リード スル ハンドウタイ キョウドウ ケンキュウ プロジェクト
タイトル関連情報 日本半導体産業復活のために
タイトル関連情報読み ニホン ハンドウタイ サンギョウ フッカツ ノ タメ ニ
著者名 垂井 康夫 /編著
著者名典拠番号

110000640000000

出版地 東京
出版者 工業調査会
出版者カナ コウギョウ チョウサカイ
出版年 2008.12
ページ数 318p
大きさ 21cm
価格 ¥2300
内容注記 超LSI共同研究所 垂井康夫∥著. SEMATECH 鴨志田元孝∥著, 三浦義男∥著. IMEC 赤城三男∥著. オルバニーナノテク 鴨志田元孝∥著, 三浦義男∥著. あすか(ASUKA)プロジェクト 禿節史∥著. 半導体先端テクノロジーズ(Selete) 相崎尚昭∥著. 半導体理工学研究センター(STARC) 禿節史∥著. 先端SoC基盤技術開発(ASPLA) 禿節史∥著. 超先端電子技術開発機構(ASET) 赤城三男∥著, 相崎尚昭∥著. 半導体MIRAIプロジェクト 赤城三男∥著, 相崎尚昭∥著. HALCAプロジェクト 溝渕裕三∥著. DIINプロジェクト 溝渕裕三∥著. 極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA) 赤城三男∥著, 相崎尚昭∥著
内容紹介 通産省が1975〜1980年に行ったプロジェクト「超LSI共同研究所」とそれ以降の主な研究プロジェクトをレビュー。特に製造装置に重点をおいた効果を考え、その後の研究にどのように生かされてきたかなどを検証する。
一般件名 半導体
一般件名カナ ハンドウタイ
一般件名 半導体
一般件名カナ ハンドウタイ
一般件名典拠番号

511311800000000

分類:都立NDC10版 549.8
資料情報1 『世界をリードする半導体共同研究プロジェクト 日本半導体産業復活のために』 垂井 康夫/編著  工業調査会 2008.12(所蔵館:中央  請求記号:/549.8/5132/2008  資料コード:5016054191)
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1107687700

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内容 内容ヨミ 著者名 著者名ヨミ ページ
超LSI共同研究所 / 共同研究所の元祖 チョウエルエスアイ キョウドウ ケンキュウジョ 垂井 康夫/著 タルイ ヤスオ 13-42
SEMATECH / 先端量産技術開発のための共同研究 セマテック 鴨志田 元孝/著 カモシダ モトタカ 45-72
IMEC / 世界の半導体企業にとって魅力ある独立研究機関 アイメック 赤城 三男/著 アカギ ミツオ 73-100
オルバニーナノテク / 研究・教育発信源としての総合施設 オルバニー ナノテク 鴨志田 元孝/著 カモシダ モトタカ 101-126
あすか(ASUKA)プロジェクト / 日本半導体の復活をめざす アスカ プロジェクト 禿 節史/著 カムロ セツフミ 129-140
半導体先端テクノロジーズ(Selete) / 日本の総力を結集した先端技術研究開発組織 ハンドウタイ センタン テクノロジーズ エスイーエルイーティーイー 相崎 尚昭/著 アイザキ ナオアキ 141-166
半導体理工学研究センター(STARC) / 設計技術力の強化と人材育成に取り組む ハンドウタイ リコウガク ケンキュウ センター スターク 禿 節史/著 カムロ セツフミ 167-182
先端SoC基盤技術開発(ASPLA) / 夢見た日の丸ファウンドリ センタン エスオーシー キバン ギジュツ カイハツ アスプラ 禿 節史/著 カムロ セツフミ 183-196
超先端電子技術開発機構(ASET) / 基盤技術開発を担う研究組合 チョウセンタン デンシ ギジュツ カイハツ キコウ エーエスイーティー 赤城 三男/著 アカギ ミツオ 197-215
半導体MIRAIプロジェクト / 世界レベルの技術を開発 ハンドウタイ ミライ プロジェクト 赤城 三男/著 アカギ ミツオ 217-235
HALCAプロジェクト / 製造装置を含む実現可能なミニファブの提案 エイチエーエルシーエー プロジェクト 溝渕 裕三/著 ミゾブチ ユウゾウ 237-253
DIINプロジェクト / 瞬時製品化対応新生産方式と装置事業の創出 ディーアイアイエヌ プロジェクト 溝渕 裕三/著 ミゾブチ ユウゾウ 255-280
極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA) / 世界レベルのEUV露光システム技術を開発 キョクタン シガイセン ロコウ システム ギジュツ カイハツ キコウ イーユーヴイエー 赤城 三男/著 アカギ ミツオ 281-304