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[ 和図書 ] フォトレジスト材料開発の新展開 ( エレクトロニクスシリーズ )

上田 充／監修 -- シーエムシー出版 -- 2009.8 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /549.7/5067/2009 5017124030 Digital BookShelf
2009/10/27 可能 利用可   0
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ISBN 4-7813-0149-5
ISBN13桁 978-4-7813-0149-5
タイトル フォトレジスト材料開発の新展開
タイトルカナ フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
著者名 上田 充 ／監修
著者名典拠番号

110004089510000

並列タイトル New Trends of Photoresists
出版地 東京
出版者 シーエムシー出版
出版者カナ シーエムシー シュッパン
出版年 2009.8
ページ数 7, 317p
大きさ 27cm
シリーズ名 エレクトロニクスシリーズ
シリーズ名のルビ等 エレクトロニクス シリーズ
価格 ¥65000
内容紹介 現在多方面で使用されている、また将来用いられる微細加工用レジスト材料。最前線で活躍している研究者たちが、その最新の技術動向や問題点、将来の展望について詳述する。
一般件名 感光性樹脂,リソグラフィー
一般件名カナ カンコウセイジュシ,リソグラフィー
一般件名 リソグラフィー , 感光性樹脂
一般件名カナ リソグラフィー,カンコウセイ ジュシ
一般件名典拠番号

510268700000000 , 510599600000000

分類：都立NDC10版 549.7
資料情報1 『フォトレジスト材料開発の新展開』（エレクトロニクスシリーズ）　上田 充／監修 　シーエムシー出版　2009.8（所蔵館：中央　 請求記号：/549.7/5067/2009　 資料コード：5017124030）
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1107875548

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