東木 達彦/監修 -- シーエムシー出版 -- 2012.8 --

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所蔵館 所蔵場所 資料区分 請求記号 資料コード 所蔵状態 資料の利用
配架日 協力貸出 利用状況 返却予定日 資料取扱 予約数 付録注記 備考
中央 書庫 一般図書 /549.7/5094/2012 7100860278 Digital BookShelf
2012/08/28 可能 利用可   0

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ISBN 4-7813-0550-9
ISBN13桁 978-4-7813-0550-9
タイトル 液浸リソグラフィのプロセスと材料
タイトルカナ エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ
著者名 東木 達彦 /監修
著者名典拠番号

110004852460000

並列タイトル Process and Ingredient of Immersion Lithography
特殊な版表示 普及版
出版地 東京
出版者 シーエムシー出版
出版者カナ シーエムシー シュッパン
出版年 2012.8
ページ数 5, 243p
大きさ 26cm
シリーズ名 エレクトロニクスシリーズ
シリーズ名のルビ等 エレクトロニクス シリーズ
価格 ¥3800
内容紹介 第一線で活躍する研究者らが、露光装置、トラック、レジスト材料、マスク、シミュレーションなど、液浸リソグラフィのプロセスと材料に関する最新の技術開発動向、課題、将来展望などを解説する。
一般件名 リソグラフィー-ndlsh-00576369
一般件名カナ リソグラフィー-00576369
一般件名 リソグラフィー
一般件名カナ リソグラフィー
一般件名典拠番号

510268700000000

分類:都立NDC10版 549.7
資料情報1 『液浸リソグラフィのプロセスと材料』(エレクトロニクスシリーズ) 東木 達彦/監修  シーエムシー出版 2012.8(所蔵館:中央  請求記号:/549.7/5094/2012  資料コード:7100860278)
URL https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1152122202