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[ 和図書 ] 半導体・電子材料分析 ( 試料分析講座 )

日本分析化学会／編 -- 丸善出版 -- 2013.7 --

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所蔵は 1 件です。

所蔵館	所蔵場所	資料区分	請求記号	資料コード	所蔵状態	資料の利用
配架日	協力貸出	利用状況	返却予定日	資料取扱	予約数	付録注記	備考
中央	書庫	一般図書	/549.8/5273/2013	7102492626		Digital BookShelf
2013/08/13	可能	利用可			0

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資料詳細

ISBN	4-621-08700-8
ISBN13桁	978-4-621-08700-8
タイトル	半導体・電子材料分析
タイトルカナ	ハンドウタイデンシザイリョウブンセキ
著者名	日本分析化学会／編
著者名典拠番号	210000030540000
出版地	東京
出版者	丸善出版
出版者カナ	マルゼンシュッパン
出版年	2013.7
ページ数	21, 300p
大きさ	21cm
シリーズ名	試料分析講座
シリーズ名のルビ等	シリョウブンセキコウザ
価格	¥4800
内容紹介	半導体・電子材料を用いたナノ構造デバイスの研究開発、不具合診断、製造装置の条件出しなどに用いられる種々の分析法の原理・特徴を解説し、応用・分析例を示す。今後の利用が期待される分析・計測法についても取り上げる。
書誌・年譜・年表	文献:章末
一般件名	半導体-分析-001144007-ndlsh
一般件名カナ	ハンドウタイ-ブンセキ-001144007
一般件名	半導体 , 電子材料 , 分析化学
一般件名カナ	ハンドウタイ,デンシザイリョウ,ブンセキカガク
一般件名典拠番号	511311800000000 , 511215700000000 , 510427400000000
分類：都立NDC10版	549.8
資料情報1	『半導体・電子材料分析』（試料分析講座）　日本分析化学会／編　丸善出版　2013.7（所蔵館：中央　請求記号：/549.8/5273/2013　資料コード：7102492626）
URL	https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1152304978

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1 半導体・電子材料の分析: 1.1 半導体・電子材料分野で用いられる分析法; 1.2 半導体・電子材料分野における定量的な分析・計測と標準
2 誘導結合プラズマ質量分析(ICP-MS): 2.1 ICP-MSの概要; 2.2 ICP-MSの原理; 2.3 微量金属分析における留意点; 2.4 半導体関連材料の分析例; 参考文献
3 誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP-AES): 3.1 ICP-AESの概要; 3.2 ICP-AESの原理; 3.3 ICP-AESの応用; 参考文献
4 二次イオン質量分析(SIMS): 4.1 SIMSの概要; 4.2 SIMSの原理; 4.3 SIMSの応用; 参考文献
5 蛍光X線分析(XRF): 5.1 XRFの概要; 5.2 XRFによる膜厚・組成分析; 5.3 全反射蛍光X線分析(TXRF); 参考文献
6 三次元アトムプローブ(APT): 6.1 APTの概要; 6.2 APTの原理; 6.3 局所電極型アトムプローブ; 6.4 試料作製方法; 6.5 APTの応用例; 6.6 おわりに; 参考文献
7 走査電子顕微鏡(SEM): 7.1 SEMの概要; 7.2 SEMの原理; 参考文献
8 測長走査電子顕微鏡(測長SEM): 8.1 測長SEMの概要; 8.2 測長SEMの原理; 8.3 測長SEMの応用; 8.4 各種基板への対応(マスク・磁気ヘッド); 参考文献
9 透過電子顕微鏡(TEM): 9.1 TEMの概要; 9.2 TEMの構造と原理; 9.3 STEMの原理; 9.4 微小領域分析手法; 9.5 TEM/STEMの応用; 参考文献
10 走査プローブ顕微鏡(SPM): 10.1 SPMの概要; 10.2 半導体断面における不純物キャリヤー濃度二次元分布評価技術; 10.3 SSRMによる断面におけるキャリヤー分布評価手法; 10.4 SCM法と半導体微小領域のキャリヤー濃度分析への応用; 参考文献
11 ラザフォード後方散乱分析(RBS)と弾性反跳検出分析(ERDA): 11.1 RBSとERDAの概要; 11.2 RBSとERDAの原理; 11.3 RBSとERDAの応用; 11.4 HRBS/HERDAの概要; 11.5 HRBS/HERDAの原理; 11.6 HRBS/HERDAの応用; 参考文献
12 X線反射率: 12.1 X線反射率の概要; 12.2 X線反射率の原理; 12.3 X線反射率データの解析; 12.4 測定装置と測定方法; 12.5 X線反射率の応用; 参考文献
13 陽電子消滅: 13.1 陽電子消滅の概要; 13.2 陽電子消滅の原理; 13.3 陽電子消滅の応用; 参考文献
14 オージェ電子分光法(AES)とX線光電子分光法(XPS): 14.1 AESとXPSの概要; 14.2 AESとXPSの原理と比較; 14.3 AESとXPSの応用; 14.4 まとめ; 参考文献

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