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[ 和図書 ] ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用

表面技術協会／編 -- コロナ社 -- 2016.12 --

所蔵

所蔵は 1 件です。

所蔵館	所蔵場所	資料区分	請求記号	資料コード	所蔵状態	資料の利用
配架日	協力貸出	利用状況	返却予定日	資料取扱	予約数	付録注記	備考
中央	2F	一般図書	/566.7/5059/2016	7108379555		配架図 Digital BookShelf
2017/01/13	可能	利用可			0

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資料詳細

ISBN	4-339-04650-2
ISBN13桁	978-4-339-04650-2
タイトル	ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用
タイトルカナ	ドライプロセスニヨルヒョウメンショリハクマクケイセイノオウヨウ
著者名	表面技術協会／編
著者名典拠番号	210000191030000
出版地	東京
出版者	コロナ社
出版者カナ	コロナシャ
出版年	2016.12
ページ数	10, 305p
大きさ	21cm
価格	¥4600
内容紹介	「ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎」の応用編。真空技術からプロセスモニター、炭素系薄膜まで、研究現場や製造現場で基礎技術をベースに的確にドライプロセスが実施できるよう、工夫して解説する。
書誌・年譜・年表	文献:p283～302
一般件名	金属表面処理-ndlsh-00565907,薄膜-ndlsh-00562857,真空蒸着-ndlsh-00565927
一般件名カナ	キンゾクヒョウメンショリ-00565907,ハクマク-00562857,シンクウジョウチャク-00565927
一般件名	金属表面処理 , 薄膜
一般件名カナ	キンゾクヒョウメンショリ,ハクマク
一般件名典拠番号	510384100000000 , 511306800000000
分類：都立NDC10版	566.7
資料情報1	『ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用』　表面技術協会／編　コロナ社　2016.12（所蔵館：中央　請求記号：/566.7/5059/2016　資料コード：7108379555）
URL	https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1152921393

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第Ⅰ編ドライプロセスの基盤技術: 1.真空技術; 2.ガス制御; 3.プロセスモニター
第Ⅱ編ドライプロセスの応用: 4.光学薄膜; 5.トライボロジー薄膜; 6.表面硬化処理; 7.耐環境性皮膜; 8.ガスバリア膜; 9.親水性とはっ水性; 10.高分子材料の表面処理; 11.炭素系薄膜; 12.ドライプロセスと医療

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