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[ 和図書 ] 超並列電子ビーム描画装置の開発集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

江刺正喜／著 -- 東北大学出版会 -- 2018.6 --

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所蔵館	所蔵場所	資料区分	請求記号	資料コード	所蔵状態	資料の利用
配架日	協力貸出	利用状況	返却予定日	資料取扱	予約数	付録注記	備考
中央	2F	一般図書	/549.1/5028/2018	7110566869		配架図 Digital BookShelf
2018/07/10	可能	利用可			0

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ISBN	4-86163-296-9
ISBN13桁	978-4-86163-296-9
タイトル	超並列電子ビーム描画装置の開発
タイトルカナ	チョウヘイレツデンシビームビョウガソウチノカイハツ
タイトル関連情報	集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
タイトル関連情報読み	シュウセキカイロノディジタルファブリケーションオメザシテ
著者名	江刺正喜／著, 宮口裕／著, 小島明／著, 池上尚克／著, 越田信義／著, 菅田正徳／著, 大井英之／著
著者名典拠番号	110000162970000 , 110007377060000 , 110007377100000 , 110007377070000 , 110001130740000 , 110007377080000 , 110007377090000
出版地	仙台
出版者	東北大学出版会
出版者カナ	トウホクダイガクシュッパンカイ
出版年	2018.6
ページ数	7, 228p
大きさ	21cm
価格	¥3000
内容紹介	並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめた書。並列電子ビーム描画の課題、各種電子源、実証実験結果、応用と今後の課題などについて解説する。
書誌・年譜・年表	文献:章末,p217～223
一般件名	電子流-00561460-ndlsh,集積回路-00572448-ndlsh
一般件名カナ	デンシリュウ-00561460,シュウセキカイロ-00572448
一般件名	電子線
一般件名カナ	デンシセン
一般件名典拠番号	511216500000000
分類：都立NDC10版	549.1
資料情報1	『超並列電子ビーム描画装置の開発集積回路のディジタルファブリケーションを目指して』　江刺正喜／著, 宮口裕／著 , 小島明／著　東北大学出版会　2018.6（所蔵館：中央　請求記号：/549.1/5028/2018　資料コード：7110566869）
URL	https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1153199034

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第1章マスクレス露光と電子ビーム描画・転写: 1.1 マスクレス露光(描画); 1.2 各種電子ビーム描画・転写; 参考文献
第2章並列電子ビーム描画の課題: 2.1 電子ビーム制御; 2.2 電子ビームの集束と電子レンズ; 2.3 描画速度; 参考文献
第3章並列電子ビーム描画装置用電子源: 3.1 研究されてきた各種電子源; 3.2 ナノクリスタルシリコン(nc‐Si)電子源; 参考文献
第4章超並列電子ビーム描画(MPEBW): 4.1 システム構成; 4.2 電子源アレイ; 4.3 電子源駆動LSI; 4.4 電子源ユニットと電子ビーム制御システム; 4.5 描画装置; 4.6 等倍露光実験; 4.7 マルチカラム化; 参考文献
第5章応用と今後の課題: 5.1 デバイス大量生産への応用; 5.2 マルチビーム技術の直接描画への応用; 5.3 マルチビーム電子源の効果的な活用方法; 5.4 マルチビーム1チップ直接描画装置(効果的応用例1); 5.5 光デバイス向けマルチビーム直接描画装置(効果的応用例2); 5.6 マルチビームSEMへの応用(効果的応用例3); 5.7 高安定電子源の必要性(今後の課題1); 5.8 高輝度電子源の必要性(今後の課題2); 5.9 まとめ
まとめ(超並列電子ビーム描画装置開発の成果と今後の展望)

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