| ISBN |
4-909118-79-0
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| ISBN13桁 |
978-4-909118-79-0
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| タイトル |
ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望
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| タイトルカナ |
ナノインプリント リソグラフィ ノ シャカイ ジッソウ ト ショウライ テンボウ
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| タイトル関連情報 |
EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み
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| タイトル関連情報読み |
イーユーヴイエル ニ タイコウ スル チュウモク ノ ジセダイ ハンドウタイ ビサイ カコウ ギジュツ オヨビ リケイセイ カダイ コクフク ニ ムケタ トリクミ
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| 著者名 |
平井 義彦
／監修
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| 著者名典拠番号 |
110004758860000
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| 出版地 |
川崎
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| 出版者 |
AndTech
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| 出版者カナ |
アンドテック
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| 出版年 |
2025.3
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| ページ数 |
135p
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| 大きさ |
26cm
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| 価格 |
¥50000
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| 内容紹介 |
ナノインプリント・リソグラフィのメカニズム、半導体微細加工の応用に向けた各種取り組み、装置の開発と実用化、デバイス適用への見通しや、離型性課題の評価と対策を紹介。国内外の動向と今後の展望も論じる。
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| 一般件名 |
ナノインプリント-ndlsh-01086440
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| 一般件名 |
ナノインプリント
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| 一般件名カナ |
ナノインプリント
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| 一般件名典拠番号 |
511791400000000
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| 分類：都立NDC10版 |
549.8
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| テキストの言語 |
日本語
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| 資料情報1 |
『ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望
EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み』 平井 義彦／監修
AndTech 2025.3（所蔵館：中央
請求記号：/549.8/5456/2025
資料コード：7119162994）
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| URL |
https://catalog.library.metro.tokyo.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1154742221 |
